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浅述真空镀膜和光学镀膜的区别
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- 发布时间：2021-12-13 12:03
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【概要描述】镀膜靶材是通过物理或化学方法在靶表面镀透明电解质膜或镀金属膜来改变靶表面的反射和透射特性。镀膜方法有真空镀膜和光学镀膜，很多用户不知道这两者的区别，今天小编就给大家讲解下真空镀膜和光学镀膜的区别是什么。
浅述真空镀膜和光学镀膜的区别
【概要描述】镀膜靶材是通过物理或化学方法在靶表面镀透明电解质膜或镀金属膜来改变靶表面的反射和透射特性。镀膜方法有真空镀膜和光学镀膜，很多用户不知道这两者的区别，今天小编就给大家讲解下真空镀膜和光学镀膜的区别是什么。
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镀膜靶材是通过物理或化学方法在靶表面镀透明电解质膜或镀金属膜来改变靶表面的反射和透射特性。镀膜方法有真空镀膜和光学镀膜，很多用户不知道这两者的区别，今天小编就给大家讲解下真空镀膜和光学镀膜的区别是什么。
一、概念
1、真空镀膜是在高真空状态下加热金属或非金属材料蒸发，凝结在电镀(金属、半导体或绝缘体)表面形成薄膜的方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等.
2、光学镀膜是指在光学零件表面镀金属(或介质)薄膜的过程。光学元件表面电镀的目的是减少或增加光的反射、分裂、分色、过滤、偏振等要求。常常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜.
二、原理
1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频、磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制剂的一项新技术。简而言之，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法。
2、光的干涉在薄膜光学中有广泛的应用。光学薄膜技术的一般方法是通过真空溅射在玻璃基板上涂薄膜。一般用于调节基板对入射光束的反射率和透射率，以满足不同的需求。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，镀上一个或多个透明介质膜，称为渗透膜或反射膜。
随着激光技术的发展，膜层对反射率和透光率的要求发生了变化，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。
三、膜厚
真空镀膜用普通金属材料电镀的膜厚约为3-5微米。光学镀膜的膜厚测试只需在涂布机的中上部安装膜厚测试仪即可。早期使用光控制测试，现在一般用晶振片,使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度.不同膜层的厚度不同.
以上内容是关于真空镀膜和光学镀膜之间差异的介绍，希望能对大家有所帮助。真空镀膜的过程很复杂，只是因为都需要高真空度而得名，光学镀膜的镀膜材料都是稀有金属,这些材料随着科技的发展其需求可能会增长。
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