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什么是真空镀膜？有几种形式？
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- 发布时间：2022-10-24 09:49
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【概要描述】真空镀膜是在真空中制备薄膜层包括半导体、镀晶态金属、绝缘体等单质或化合物薄膜，是一种用物理方法生产薄膜材料的技术。虽然化学气相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但真空镀膜一般是指通过物理方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即溅射镀膜、蒸发镀膜和离子镀。
什么是真空镀膜？有几种形式？
【概要描述】真空镀膜是在真空中制备薄膜层包括半导体、镀晶态金属、绝缘体等单质或化合物薄膜，是一种用物理方法生产薄膜材料的技术。虽然化学气相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但真空镀膜一般是指通过物理方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即溅射镀膜、蒸发镀膜和离子镀。
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真空镀膜是在真空中制备薄膜层包括半导体、镀晶态金属、绝缘体等单质或化合物薄膜，是一种用物理方法生产薄膜材料的技术。虽然化学气相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但真空镀膜一般是指通过物理方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即溅射镀膜、蒸发镀膜和离子镀。
蒸发镀膜：通过加热使一种物质在固体表面蒸发，称为蒸发镀膜。该方法将待镀工件如金属、陶瓷和塑料置于坩埚前，将蒸发物质如金属和化合物置于坩埚中或挂在热丝上作为蒸发源。将系统抽至高真空后，加热坩埚以蒸发其中的物质，蒸发物质的原子或分子通过冷凝沉积在基底表面。薄膜厚度可以从几百埃到几微米，薄膜厚度与源和基底之间的距离有关，取决于蒸发源的蒸发速率和时间。对于大面积镀膜，通常采用旋转基底或多个蒸发源来保证膜厚的均匀性。蒸发源到衬底的距离应小于残留气体中蒸汽分子的平均自由程，以避免蒸汽分子与残留气体分子碰撞而发生化学反应。
溅射镀膜：当高能粒子轰击固体表面时，固体表面的粒子可以获得能量，从表面逸出，沉积在基底上。1870年溅射开始用于镀膜技术，1930年后因为提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。
离子镀膜：离子镀膜是真空蒸发和阴极溅射技术的结合。被蒸发物质的分子通过电子碰撞电离，然后以离子的形式沉积在固体表面，称为离子镀膜。
真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了它的应用非常丰富。一般来说，真空镀膜的主要作用包括赋予镀膜件表面高度的镜面效果和金属光泽，提供优异的电磁屏蔽和导电效果，使膜层对薄膜材料具有优异的阻隔性能。
真空镀膜技术是一种新的材料合成和加工技术，是表面工程技术的重要组成部分。真空镀膜技术是通过物理化学手段在固体表面镀上一层具有特殊性能的涂层，使固体表面具有许多优越的性能，如耐磨、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘、装饰等，这些性能优于固体材料本身，从而达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源的效果，获得良好的技术经济效益。因此，真空镀膜技术被认为是很有前途的技术之一，并在高科技产业化发展中显示出诱人的市场前景。
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